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    勻膠機主要用於晶片塗光刻膠

    更新時間:2022-03-15   點擊次數:1424次
      勻膠機是在高速旋轉的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地塗覆在基片上的設備,膜的厚度取決於該機的轉速和溶膠的黏度。采用觸摸屏設置可用於直徑28-200mm晶片塗覆,儀器配有“安全開關按鈕”轉速範圍300-8500RPM,可選無油或有油真空泵等配件。
      
      近年來的發展趨勢是在自動工作方式的勻膠機中加入預塗增粘劑(HMDS)的冷板和熱板工藝模塊,以增強光刻膠和晶片的附著力。為了提高生產率,國外已經研製出多種工藝模塊任意組合的積木式結構,有的還帶有膠膜自動測量和監控裝置。
      
      應用:
      該設備主要用於晶片塗光刻膠,有自動、手動和半自動三種工作方式。
      
      從其原理來說它有以下兩個特點:
      (1)旋轉速度
      轉速的快慢和控製精度直接關係到旋塗層的厚度控製和膜層均勻性。如果標示的轉速和電機的實際轉速誤差很大,對於要求精密塗覆的科研人員來說是無法獲得準確的實驗數據的。目前轉速控製方麵有國際認定標準,如美國NIST標準等。
      
      (2)真空吸附係統
      真空泵一般采用無油泵,即通常說的幹泵,因為任何的油汙都可能堵塞真空管道,如果真空吸附力降低,會導致基片吸附不住而產生"飛片"的情況,還會讓滴的膠液不慎進入真空管道係統造成*堵塞。有的勻膠機通過聯動機製,當真空吸附力不夠時不會開始旋轉。這樣可有效避免滴的膠液不慎進入真空管道係統。
      
      總的來說,他們原理都是一樣的,即在高速旋轉的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地塗覆在基片上,厚度視不同膠液和基片間的粘滯係數而不同,也和旋轉速度及時間有關。
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