紫外臭氧清洗機是一種簡單,經濟,快速的材料表麵清洗設備,隻需把樣品放置到樣品盤上,關上艙門,設置時間,並按運行,就可以了,能快速去除大多數無機基材(比如石英,矽片,金,鎳,鋁,砷化镓,氧化鋁等)上的有機汙染物。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時,紫外清洗非常理想。
紫外臭氧清洗機的光清洗技術的應用範圍十分廣泛,在現代信息技術行業中使用光清洗技術比較普遍,隨著我國工業現代化的發展,光清洗和光改質技術還將逐步應用於金屬、塑料、橡膠等工業生產領域。
1、在LCD、OLED生產中,在塗光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經過光清洗,可以極大的提高基體表麵潤濕性,增強基體表麵的粘合力;
2、印製電路板生產中,對銅底板,印刷底板進行光清洗和改質,在導線焊接前進行光清洗,可以提高熔焊的接觸麵積,大大增加連接強度。特別是高精度印製電路板,當線距達到亞微米級時,光清洗可輕易地去除在線距之間很小的微粒,可以大大提高印製電路板的質量。
3、大規模集成電路的密度越來越高,晶格的微細化越來越密,要求表麵的潔淨度越來越高,光清洗可以有效地實現表麵的原子清潔度,而且對芯片表麵不會造成損傷。
4、在半導體生產中,矽晶片塗保護膜、鋁蒸發膜前進行光清洗,可以提高粘合力,防止針孔、裂縫的發生。
5、在光盤的生產中,沉積各種膜前作光清洗準備,可以提高光盤的質量。